對修整環形拋光機平面拋光過程進行了運動分析，最后對環形拋光機可拋光的球面曲率半徑范圍進行了探討，利用0.69m環形拋光機對口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進行了拋光。利用0.69m環形拋光機對口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進行了拋光。

　　利用0.69m環形拋光機對口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進行了拋光，而傳統陶瓷拋光機工藝參數的制定大多建立在改善瓷磚表面加工質量和提高拋光的生產效率等問題上。對種功能陶瓷進行了平面拋光實驗，進行了拋光機氣動系統的設計，并分析了修整環型拋光機拋光過程中工件材料的去除函數。利用PLC和監控組態軟件對全自動拋光機電氣控制系統進行設計與實現。

　　修正環型拋光機用于超精密平面拋光。直徑0.8m的盤面可拋光的曲率半徑可低至10m。直徑0.8m的盤面可拋光的曲率半徑可低至10m，結果表明面形精度和致性均優于平面擺動式拋光法。

　　結果表明面形精度和致性均優于平面擺動式拋光法。在整個瓷磚拋光生產線中陶瓷拋光機是最重要的加工設備。分析了廣泛采用的行星式平面研磨拋光機的運動原理。

　　日本豐田工機公司研制成功采用浮動拋光進行超精密加工的SP46型超精密平面拋光機，發現盤面尺寸越小球面拋光能力越強，發現盤面尺寸越小球面拋光能力越強。認為本文所設計的葉片拋光機完全能夠實現拋光葉片的功能。平面拋光機的概要浮動拋光加工原理圖1表示浮動拋光加工狀態，還發現了拋光機振動與加工軌跡的1個新的關系，研制了種采用專家數據庫智能控制系統的納米級超精密平面拋光機，闡述了數控研磨拋光機產品的特點及發展方向，文章通過具體實驗調整內外齒圈齒比得到1個優化的參數使雙面拋光機的振動減小，為了能夠提高拋光機拋光質量，因此發展半自動的模具拋光機成了種切實可行的研究方向，瓷磚拋光的質量主要取決于拋光機工藝參數的制定，本文描述了臺自制大平面拋光機的結構和原理。

　　本文設計了種圓平動或擺動式新型雙面拋光機，詳細討論了拋光墊上不同位置點的相對軌跡。計算出的拋光量和平面度與60mm直徑的玻璃圓板工件的實驗值非常致。本文所設計的葉片拋光機機械結構本體。

　　常用行星式雙面拋光機中工件及載體的內外緣速差會引起拋光墊變形。