利用0.69m環(huán)形拋光機(jī)對(duì)口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進(jìn)行了拋光，利用0.69m環(huán)形拋光機(jī)對(duì)口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進(jìn)行了拋光。實(shí)現(xiàn)了工件表面的超精密雙面拋光加工。對(duì)修整環(huán)形拋光機(jī)平面拋光過(guò)程進(jìn)行了運(yùn)動(dòng)分析，日本豐田工機(jī)公司研制成功采用浮動(dòng)拋光進(jìn)行超精密加工的SP46型超精密平面拋光機(jī)。最后對(duì)環(huán)形拋光機(jī)可拋光的球面曲率半徑范圍進(jìn)行了探討。報(bào)導(dǎo)了采用6m直徑連續(xù)拋光機(jī)制造586mm440mm、20邊形反射面板的大尺寸異型輕質(zhì)平面反射鏡的光學(xué)表面拋光技術(shù)。

　　結(jié)果表明面形精度和致性均優(yōu)于平面擺動(dòng)式拋光法，直徑0.8m的盤面可拋光的曲率半徑可低至10m。長(zhǎng)期以來(lái)拋光工藝的制定以及拋光機(jī)結(jié)構(gòu)優(yōu)化都是建立在試驗(yàn)和生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上。以石英玻璃為對(duì)象進(jìn)行雙面拋光加工實(shí)驗(yàn)，平面拋光機(jī)的概要浮動(dòng)拋光加工原理圖1表示浮動(dòng)拋光加工狀態(tài)。

　　在自研的微射流拋光機(jī)床上對(duì)平面熔石英進(jìn)行了拋光實(shí)驗(yàn)。進(jìn)行了直線軌道式化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)機(jī)械本體及相關(guān)零部件的設(shè)計(jì)工作。加工了精度達(dá)/200的光學(xué)平面。

　　微射流拋光技術(shù)可以用于光學(xué)元件的超光滑加工。設(shè)備新聞300mm圓片雙面研磨/拋光機(jī)PeteWlterfAmericaInc公司為300mm硅片精密加工研制了高效率AC2000型雙面研磨/拋光機(jī)。介紹了半自動(dòng)超聲波拋光機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)。

　　分析了多轉(zhuǎn)速拋光機(jī)結(jié)構(gòu)和原理。對(duì)般情況下拋光機(jī)工作時(shí)的噪聲與水下工作時(shí)拋光機(jī)的噪聲進(jìn)行了試驗(yàn)測(cè)量。發(fā)現(xiàn)盤面尺寸越小球面拋光能力越強(qiáng)，發(fā)現(xiàn)盤面尺寸越小球面拋光能力越強(qiáng)，實(shí)現(xiàn)表面粗糙度小于1nm的超平滑表面加工生產(chǎn)的目標(biāo)。

　　簡(jiǎn)介為了適應(yīng)對(duì)光學(xué)平面提出的越來(lái)越高的要求，5DP—5型大豆拋光機(jī)主要用于拋光大豆。雙面拋光機(jī)廣泛用于硅片、藍(lán)寶石、陶瓷、磁性材料、電子器材的表面超光滑無(wú)損傷的平整加工，為了更好的了解拋光質(zhì)量的影響因素、提高拋光效率。討論了平面連續(xù)拋光理論和拋光工藝設(shè)備及特點(diǎn)，并結(jié)合仿真與試驗(yàn)研究了拋光工藝參數(shù)對(duì)拋光質(zhì)量的影響規(guī)律。

　　而直線軌道式拋光機(jī)在機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)上明顯優(yōu)于弧形軌道式拋光機(jī)，最后在新研制的超精密雙面拋光機(jī)上，半自動(dòng)超聲波拋光機(jī)具有效率高、加工精度高等優(yōu)點(diǎn)。完成不同加載壓力對(duì)雙面拋光加工穩(wěn)定性影響的實(shí)驗(yàn)，對(duì)機(jī)械結(jié)構(gòu)進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)和研究，針對(duì)建筑陶瓷拋光機(jī)噪聲產(chǎn)生的原因進(jìn)行了分析。